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一、设备概述：
卧式扩散炉设备可应用于集成电路、分立器件、 POWER、 MEMS等多种领域，适用于4-8英寸晶圆芯片的氧化、扩散、GPP、退火、合金等工艺。
扩散工艺是在高温条件下，利用热扩散原理将杂质元素按要求的深度掺入硅衬底中，使其具有特定的浓度分布，达到改变材料的电学特性，形成半导体器件结构的目的。可用于制作PN结或构成集成电路中的电阻、电容、二极管和晶体管等器件。
二、设备参数类型：
设备性能指标 | ||
1 | 操作方式 | 根据客户操作可定左/右手操作 |
2 | 管路数 | 1-5管 |
3 | 加工晶圆尺寸 | 4-8寸 |
4 | 适用工艺 | 扩散（磷扩、硼扩）、氧化（干氧、合成）、玻璃钝化（GPP）、退火、合金、铝预沉积 |
5 | 温度校准功能 | 具有自动校准温区功能，具有预先写入偏差值快速拉温区功能 |
6 | 控温模式 | Spike控温+Profile串级控温 |
7 | 控制系统结构 | 一体工控机+PLC |
8 | 报警保护: | 具有超温报警，断偶报警，气体互锁，气体缓启动等功能 |
三、设备主要特点和优势
1★具有强大的操作功能，windows界面，显示屏操作，用户可以方便地修改工艺控制参数，并可随时显示各种工艺状态；配有故障自诊断软件，可大大节省维修时间；
2★采用可靠性工控机+PLC模式，对炉温、进退舟、气体流量、阀门进行全自动控制,实现全部工艺过程自动化；
3★程序可以实现手/自动工作，在停电或中途停机后，再次启动可以根据工艺手动升温，节省工艺时间；
4★具有多种工艺管路，可供用户方便选择；
5★冷端采用PT100检测环境温度进行温度补偿，避免环境温度变化，对炉膛温度产生影响，避免层间干扰；
6★推拉舟控制采用高速脉冲闭环控制，避免马达丢步，运行颤抖现象。推拉舟运行完一个周期，自动校准位置，有效防止定位偏差；
7★气体流量控制精确，采用模拟信号闭环控制，强弱电分开，各种数据交互采用标准总线，提高抗干扰能力，保证数据安全；气体打开具有缓启动功能；
8★具有多种报警功能及安全保护功能；
9★恒温区自动调整，串级控制，可准确控制反应管的实际工艺温度；
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